问题描述： 化学刻蚀如何出缓坡 1个回答 分类：化学 2014-10-22 问题解答： 我来补答 一种用倒梯形剖面的光刻胶制作介质边缘缓坡的方法,包括：A．在基片上涂敷介质层；B．在高温下固化；C．旋涂光刻胶；D．光刻、显影,制作倒梯形剖面的光刻胶；E．用含有氧气的等离子体进行干法刻蚀,得到正梯形剖面的介质缓坡.本发明利用反转胶和负性光刻胶等能形成倒梯形剖面的光刻胶,胶的侧面可控性好,由于介质缓坡能较好控制,可提高金属爬坡的边缘可控性,提高器件的成品率和增加电路的电流的处理能力 展开全文阅读
