基本原理 在光学显微镜下无法看清小于0.2m的细微结构,这些结构称为亚显微结构（submicroscopic structures）或超微结构（ultramicroscopic structures；ultrastructures）.要想看清这些结构,就必须选择波长更短的光源,以提高显微镜的分辨率.1932年Ruska发明了以电子束为光源的透射电子显微镜（transmission electron microscope,TEM）,电子束的波长要比可见光和紫外光短得多,并且电子束的波长与发射电子束的电压平方根成反比,也就是说电压越高波长越短.目前TEM的分辨力可达0.2nm. 电子显微镜（图2-12）与光学显微镜的成像原理基本一样,所不同的是前者用电子束作光源,用电磁场作透镜.另外,由于电子束的穿透力很弱,因此用于电镜的标本须制成厚度约50nm左右的超薄切片.这种切片需要用超薄切片机（ultramicrotome）制作.电子显微镜的放大倍数最高可达近百万倍、由电子照明系统、电磁透镜成像系统、真空系统、记录系统、电源系统等5部分构成
